中國成半導(dǎo)體的最大消費(fèi)國,占全球芯片需求量的45%
芯片設(shè)計(jì)
光刻技術(shù)概述
準(zhǔn)分子光刻技術(shù)與極紫外光刻技術(shù)
向前進(jìn)!2025年前上海要突破光刻設(shè)備?芯片設(shè)計(jì)進(jìn)入3nm工藝內(nèi)
突發(fā)!美國出口限制清單新增6項(xiàng)新興技術(shù),中國出臺(tái)出口法反制!
全球首臺(tái)!蘇大維格大型紫外 3D 直寫光刻設(shè)備 iGrapher3000 投入運(yùn)行
國產(chǎn)大型紫外3D直寫光刻設(shè)備下線
國產(chǎn)大型紫外3D直寫光刻設(shè)備下線,可用于大基板3D光刻
中科院研發(fā)新型激光光刻技術(shù):不用EUV 直擊5nm
Mipi隔離方案,光通信技術(shù)方案,內(nèi)窺鏡產(chǎn)品方案
預(yù)算:¥50000開發(fā)設(shè)計(jì)80G調(diào)頻雷達(dá)線路板
預(yù)算:¥100000