光刻機(jī)(Lithography)是一種常見(jiàn)的微電子制造技術(shù),用來(lái)在半導(dǎo)體片表面制造電路圖案。光刻機(jī)利用特殊的光學(xué)技術(shù)從導(dǎo)入的制圖數(shù)據(jù)生成微小的圖案,并將它們印制到半導(dǎo)體片上。
日本相機(jī)和光刻機(jī)大廠尼康于8月8日盤(pán)后公布了今年二季度(2023年4-6月)財(cái)報(bào)。雖然中高端數(shù)字相機(jī)銷售強(qiáng)勁、出貨量增加,但是由于光刻機(jī)銷售量萎縮,導(dǎo)致合并營(yíng)收雖然較去年同期增長(zhǎng)了8.6%至1581.46億日?qǐng)A,但合并營(yíng)業(yè)利潤(rùn)暴跌78.6%至32.9億日元,合并凈利潤(rùn)也暴跌了78.3%至25.76億日元。
光刻機(jī)是現(xiàn)代集成電路制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備之一,它在半導(dǎo)體工藝中起著至關(guān)重要的作用。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的工藝流程以及設(shè)備的售價(jià)。
作為半導(dǎo)體制造中的核心裝備之一,光刻機(jī)至關(guān)重要,7nm以下工藝所需的EUV光刻機(jī)只有ASML公司能生產(chǎn),售價(jià)達(dá)到10億以上,不過(guò)今年EUV的勢(shì)頭熄火了,DUV光刻機(jī)需求反而暴漲。
2023年第二季度,ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額69億歐元(約合人民幣555億元),同比增長(zhǎng)27%。對(duì)此,ASML總裁兼CEO彼得·溫寧克(Peter Wennink)表示,這主要得益于本季度浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)的超額營(yíng)收,以及在第二季度開(kāi)始浸潤(rùn)式設(shè)備快速發(fā)貨帶來(lái)的收入確認(rèn)。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 發(fā)布了今年二季度的營(yíng)收數(shù)據(jù)報(bào)表,其中凈銷售額為 69 億歐元,超過(guò)了之前預(yù)期的 66.9 億歐元,同比上漲 19.4%。
光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)在官網(wǎng)公布了2023年二季度的營(yíng)收數(shù)據(jù),由于DUV光刻機(jī)收入增加,該季度營(yíng)收為69億歐元,超出市場(chǎng)預(yù)期(66.9億歐元),凈利潤(rùn)19億歐元,毛利率為51.3%;第二季度訂單額45億歐元,同樣超出市場(chǎng)預(yù)期(39.8億歐元),其中EUV光刻機(jī)訂單價(jià)值16億歐元。
ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink表示:“我們第二季度的凈銷售額為69億歐元,處于預(yù)測(cè)營(yíng)收區(qū)間的高位;毛利率為51.3%,超出預(yù)期目標(biāo)。這主要得益于本季度浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)的超額營(yíng)收?!?/p>
7月13日消息,《歐洲芯片法案》的結(jié)果已經(jīng)出爐,高達(dá)近500億元的補(bǔ)貼將啟動(dòng),為的是打造自主半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。
日前有報(bào)道稱,ASML將面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版DUV光刻機(jī),不過(guò)此事已經(jīng)辟謠,ASML表示一直以來(lái)ASML都遵守所適用的法律條例,公司并沒(méi)有面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版的光刻機(jī)。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,在荷蘭對(duì)光刻機(jī)實(shí)施了出口管制措施之后,業(yè)內(nèi)頻傳言 ASML 將規(guī)避該措施為中國(guó)市場(chǎng)推出特供 DUV 光刻機(jī),近日 ASML 官方專門(mén)對(duì)此進(jìn)行了回應(yīng)。
近日,ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱,該公司未來(lái)出口其先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤(rùn)式系統(tǒng))時(shí),將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 和比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開(kāi)發(fā)最先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗(yàn)線的下一階段加強(qiáng)合作,為使用半導(dǎo)體技術(shù)的行業(yè)提供原型設(shè)計(jì)平臺(tái)和未開(kāi)發(fā)的未來(lái)機(jī)遇。
當(dāng)?shù)貢r(shí)間6月30日,荷蘭政府正式頒布了有關(guān)先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的額外出口管制的新條例。光刻機(jī)巨頭ASML表示,新規(guī)只涉及部分最新的DUV型號(hào),包括TWINSCAN NXT:2000i以及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。
比利時(shí)微電子研究中心 (IMEC) 、阿斯麥 (ASML) 共同宣布,雙方將在開(kāi)發(fā)先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗(yàn)線的下一階段加強(qiáng)合作。
眾所周知,光刻機(jī)作為芯片生產(chǎn)過(guò)程中的最主要的設(shè)備之一,其重要性不言而喻。先進(jìn)的制程工藝完全依賴于先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備,比如現(xiàn)階段臺(tái)積電最先進(jìn)的第二代 3nm 工藝,離不開(kāi) EUV 光刻機(jī)。然而,前不久麻省理工學(xué)院(MIT)華裔研究生朱家迪突破了常溫條件下由二維(2D)材料制造成功的原子晶體管,每個(gè)晶體管只有 3 個(gè)原子的厚度,堆疊起來(lái)制成的芯片工藝將輕松突破 1nm。
相比2022年,今年阿斯麥(ASML)的凈銷售額有望增長(zhǎng)25%以上。
行業(yè)調(diào)研數(shù)據(jù)顯示,芯片行業(yè)的產(chǎn)值和營(yíng)收一直在不斷提高,同時(shí)其地位受到大眾的關(guān)注。光刻機(jī)在芯片領(lǐng)域當(dāng)然獨(dú)占鰲頭,但一顆芯片的成功不只取決于光刻部分,測(cè)試對(duì)芯片的質(zhì)量更有不容忽視的意義。
4月10日消息,南大廣電在互動(dòng)平臺(tái)表示,該公司自主研發(fā)的高端ArF光刻膠已經(jīng)通過(guò)了客戶認(rèn)證,并少量銷售。
近日,荷蘭ASML全球總裁彼得·溫寧克悄悄赴華,拜會(huì)了中國(guó)商務(wù)部部長(zhǎng)王文濤,雙方就ASML在華發(fā)展等議題進(jìn)行了交流。