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美國芯片大廠或?qū)⒉捎眉{米壓印光刻機(jī)！
業(yè)內(nèi)消息，近日美國存儲(chǔ)芯片大廠美光計(jì)劃首先采用日本佳能的納米壓印（NIL）光刻機(jī)，旨在通過佳能的納米壓印光刻機(jī)設(shè)備來進(jìn)一步降低生產(chǎn)DRAM存儲(chǔ)器的成本。
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佳能 CEO：納米壓印“光刻機(jī)”無法出口中國！
上個(gè)月佳能（Canon）發(fā)布了一個(gè)名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號(hào)稱通過納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實(shí)現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設(shè)備無法出口到中國。
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VGROUP與INKRON共同開發(fā)下代光學(xué)組件的高折射率材料和納米壓印光刻技術(shù)
在EVG的NILPhotonics ® 技術(shù)處理中心，共同合作開發(fā)衍射光學(xué)的新材料，以應(yīng)用于波導(dǎo)管、臉部識(shí)別傳感器和其他光子組件2020年2月17日，奧地利ST. FLORIAN和芬蘭埃斯波—EV Group(EVG)，為MEMS、納米科技和半
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EV集團(tuán)和肖特?cái)y手證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在玻璃制造中已就緒
EV集團(tuán)和肖特?cái)y手證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在玻璃制造中已就緒。聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開展,這是一個(gè)開放式的光刻/納米壓印(NIL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時(shí)也是全球唯一
小軒窗
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