2018年全球十大國家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有哪些發(fā)展亮點?它們的核心競爭力是什么?本文帶您來一探究竟。
按照摩爾定律,芯片可容納的晶體管數(shù)量每兩年提高一倍。然而,摩爾定律不只是在同一顆芯片上將晶體管數(shù)量增加一倍的技術(shù)問題。摩爾定律暗示,隨著芯片集成密度翻倍,功耗和性能都將會實現(xiàn)大幅度改進。在過去50年里,
按照摩爾定律,芯片可容納的晶體管數(shù)量每兩年提高一倍。然而,摩爾定律不只是在同一顆芯片上將晶體管數(shù)量增加一倍的技術(shù)問題。摩爾定律暗示,隨著芯片集成密度翻倍,功耗和性能都將會實現(xiàn)大幅度改進。在過去50年里,
按照摩爾定律,芯片可容納的晶體管數(shù)量每兩年提高一倍。然而,摩爾定律不只是在同一顆芯片上將晶體管數(shù)量增加一倍的技術(shù)問題。摩爾定律暗示,隨著芯片集成密度翻倍,功耗和性能都將會實現(xiàn)大幅度改進。在過去50年里,
目前日本日亞公司壟斷了藍寶石襯底上GaN基LED專利技術(shù),美國CREE公司壟斷了SiC襯底上 GaN基LED專利技術(shù)。因此,研發(fā)其他襯底上的GaN基LED生產(chǎn)技術(shù)成為國際上的一個熱點。南昌大學(xué)與廈門華聯(lián)電子有限公司合作承擔(dān)了國
根據(jù)最新消息,ARM與臺積電宣布簽署一項長期合作協(xié)議,兩家公司將以ARMv8微處理器為研發(fā)對象,探索用FinFET工藝制程技術(shù)來研發(fā)ARMv8的生產(chǎn)工藝實現(xiàn)方法。根據(jù)該協(xié)議,兩家公司合作的技術(shù)領(lǐng)域?qū)⒑w20nm以下工藝技術(shù)節(jié)
根據(jù)最新消息,ARM與臺積電宣布簽署一項長期合作協(xié)議,兩家公司將以ARMv8微處理器為研發(fā)對象,探索用FinFET工藝制程技術(shù)來研發(fā)ARMv8的生產(chǎn)工藝實現(xiàn)方法。根據(jù)該協(xié)議,兩家公司合作的技術(shù)領(lǐng)域?qū)⒑w20nm以下工藝技術(shù)節(jié)
6月19日消息,據(jù)媒體報道,AMD公司高級副總裁兼首席技術(shù)官Mark Papermaster表示,AMD在2013年芯片生產(chǎn)工藝將有重大變化,將完全從現(xiàn)有的SOI制造工藝切換到28nm Bulk CMOS工藝。至于GPU制造,AMD并不打算作出任何改變
來自國外媒體的報道,AMD高級副總裁兼首席技術(shù)官馬克佩特馬斯特(MarkPapermaster)日前透露,AMD芯片制造工藝在2013年將迎來重大變化,或?qū)默F(xiàn)有的SOI制造工藝切換到28nmBulkCMOS工藝。在GPU生產(chǎn)方面,AMD并沒有打
6月19日消息,據(jù)媒體報道,AMD公司高級副總裁兼首席技術(shù)官Mark Papermaster表示,AMD在2013年芯片生產(chǎn)工藝將有重大變化,將完全從現(xiàn)有的SOI制造工藝切換到28nm Bulk CMOS工藝。至于GPU制造,AMD并不打算作出任何改變
來自國外媒體的報道,AMD高級副總裁兼首席技術(shù)官馬克佩特馬斯特(MarkPapermaster)日前透露,AMD芯片制造工藝在2013年將迎來重大變化,或?qū)默F(xiàn)有的SOI制造工藝切換到28nmBulkCMOS工藝。在GPU生產(chǎn)方面,AMD并沒有打
來自國外媒體的報道,AMD高級副總裁兼首席技術(shù)官馬克佩特馬斯特(MarkPapermaster)日前透露,AMD芯片制造工藝在2013年將迎來重大變化,或?qū)默F(xiàn)有的SOI制造工藝切換到28nmBulkCMOS工藝。在GPU生產(chǎn)方面,AMD并沒有打
AMD副總裁:芯片制造工藝2013年將有重大變化
新浪科技訊 北京時間6月13日上午消息,據(jù)國外媒體報道,以色列工業(yè)貿(mào)易部(Industry and Trade Ministry)表示,英特爾正籌備再度擴建位于以色列南部的芯片廠,并尋求政府撥款以解決部分融資問題。 英特爾此次擴建和
據(jù)國外媒體報道,IBM和三星當(dāng)?shù)貢r間周三宣布,兩家公司將在新型芯片材料、制造工藝等技術(shù)的基礎(chǔ)研究領(lǐng)域開展合作。IBM和三星表示,根據(jù)協(xié)議,兩家公司將聯(lián)合開發(fā)可以用于智能手機、通信設(shè)備等產(chǎn)品中的芯片制造工藝。
據(jù)國外媒體報道,英特爾、東芝和三星電子將聯(lián)手開發(fā)新技術(shù),在2016年前將芯片制造工藝提升到10納米級別。據(jù)《日經(jīng)新聞》報道,全球排名前兩位的NAND閃存制造商三星電子和東芝將與最大的芯片廠商英特爾結(jié)成合作伙伴,
GlobalFoundries今天宣布,已經(jīng)取消了32nm Bulk HKMG(高K金屬柵極)制造工藝,改而直接上馬28nm。 當(dāng)然這里說的32nm工藝針對的是圖形和無線芯片,而面向微處理器的32nm SOI工藝仍將按原計劃發(fā)展,應(yīng)該會在明年初批
TI 發(fā)布45納米芯片制造工藝
NEC研發(fā)出55納米芯片制造工藝 07年投產(chǎn)