意法愛立信(ST-愛立信)周四發(fā)布了該公司2010財(cái)年第一財(cái)季財(cái)報(bào)。北京時(shí)間4月23日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,意法愛立信(ST-愛立信)周四發(fā)布了該公司2010財(cái)年第一財(cái)季財(cái)報(bào)。財(cái)報(bào)顯示,意法愛立信第一財(cái)季凈營收為6.07億美元
您是否曾經(jīng)有過在為您的電路選擇最佳運(yùn)算放大器上花費(fèi)了大量時(shí)間但最后卻發(fā)現(xiàn)廠商基準(zhǔn)輸入的失調(diào)電壓不對(duì)的經(jīng)歷?要是在您的應(yīng)用電路中,您發(fā)現(xiàn)其 10 倍于規(guī)范怎么辦呢?您是將芯片拿去做故障分析,還是將芯片丟棄并
JEDEC 固體技術(shù)協(xié)會(huì), 全球微電子行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)領(lǐng)導(dǎo)制定機(jī)構(gòu)宣布其廣泛應(yīng)用的“固態(tài)技術(shù)詞典”第五版, JESD88D正式發(fā)布。該版包括了第四版沒有包括的8項(xiàng)新標(biāo)準(zhǔn)與文件以及22個(gè)更新文件的詞語與定義。JESD88D 可以通過JEDEC
GlobalFoundries位于德國Dresden的Fab1正在啟動(dòng)22nmCMOS工藝的開發(fā),并計(jì)劃將該工藝投入量產(chǎn)。目前還不知道該工藝和32nm及28nm工藝所采用的gate-first高k金屬柵CMOS工藝有何差別。此前,F(xiàn)ab1被認(rèn)為將作為45/40nm和32
GlobalFoundries位于德國Dresden的Fab 1正在啟動(dòng)22nm CMOS工藝的開發(fā),并計(jì)劃將該工藝投入量產(chǎn)。目前還不知道該工藝和32nm及28nm工藝所采用的gate-first高k金屬柵CMOS工藝有何差別。此前,F(xiàn)ab 1被認(rèn)為將作為45/40nm和
這篇文章簡要地探討了手機(jī)音頻系統(tǒng)中ESD及EMI的起因及結(jié)果。接著研討了ESD干擾抑制器和EMI濾波器的使用,以避免這些威脅。最后,比較了當(dāng)前三種解決方案。 現(xiàn)代材料和技術(shù)引起靜電放電(ESD)和電磁干擾(EMI),
凸版光罩(Toppan Photomasks, Inc.;TPI)、GLOBALFOUNDRIES 19日宣布針對(duì)德國Dresden先進(jìn)光罩技術(shù)中心(Advanced Mask Technology Center;AMTC) 的運(yùn)作成立合資企業(yè)。TPI的Dresden制造設(shè)施、AMTC將整合成為單一制造基
PROFIBUS 是一種具有多電氣層選項(xiàng)的工業(yè)聯(lián)網(wǎng)標(biāo)準(zhǔn)。在一些自動(dòng)控制應(yīng)用中,最為常見的 PROFIBUS 電氣層是 RS-485 的變量,其包含了一些能夠提高數(shù)據(jù)傳輸性能的附加要求。本文對(duì) PROFIBUS 應(yīng)用中的這種網(wǎng)絡(luò)技術(shù)做了簡要綜述,并介紹了針對(duì)總線收發(fā)器的一些關(guān)鍵特性。
道瓊社13日?qǐng)?bào)導(dǎo),Globalfoundries執(zhí)行長 Douglas Grose在接受專訪時(shí)指出,全球半導(dǎo)體業(yè)在歷經(jīng)兩年的衰退趨勢(shì)后,預(yù)期今(2010)年將可望反彈,進(jìn)而令該公司今年?duì)I收出現(xiàn)雙位數(shù)的成長率。Globalfoundries 13日宣布,已正
TDK集團(tuán)的TDK-EPC分公司推出了一款采用愛普科斯(EPCOS)超高電容壓敏電阻(SHCV)系列的樣品套裝,可用于防護(hù)靜電放電(ESD)和減低射頻干擾(RFI)。SHCV系列專為汽車電子研發(fā),符合AEC-Q200 Rev-C標(biāo)準(zhǔn)。除在極限條
FCI最新研制的AK2+ ESD(靜電釋放)點(diǎn)火管作為第一款商用安全氣囊連接器將接地功能整合到點(diǎn)火管連接器內(nèi)部。 “新型AK2+ ESD連接器解決方案是FCI與大眾/奧迪(VW/Audi)共同努力的結(jié)晶,計(jì)劃于2010年初夏首次應(yīng)用于大
IC制造潔凈標(biāo)準(zhǔn)趨嚴(yán) 廠房設(shè)計(jì)強(qiáng)調(diào)低能耗
集成電路(IC)制造潔凈廠房是滿足半導(dǎo)體制造工藝需求的潔凈室,該潔凈室對(duì)環(huán)境潔凈度、溫濕度、振動(dòng)、ESD(靜電控制)、AMC(氣態(tài)分子級(jí)污染物)控制等都有一定的要求。相對(duì)于其他工業(yè)潔凈室,集成電路制造潔凈室有面積大
在今年早些時(shí)候經(jīng)歷了業(yè)績嚴(yán)重下滑之后,Infineon恢復(fù)到了增長通道。該公司計(jì)劃擴(kuò)充位于Dresden的生產(chǎn)線。為了提高產(chǎn)量,Infineon計(jì)劃投入1000萬歐元(約合1470萬美元)用于購買設(shè)備。本周早些時(shí)候,Infineon執(zhí)行副總
上海華虹NEC電子有限公司(以下簡稱“華虹NEC”)近日宣布,公司基于0.13um NVM工藝平臺(tái),針對(duì)智能卡應(yīng)用,成功地開發(fā)出了高ESD性能(HBM 4KV)的POC(Pad on Circuit)解決方案,此方案有效減少了芯片面積,降低了成