美國(guó)計(jì)劃禁止用于Gate-all-around GAA新技術(shù)制造芯片所必需的EDA軟件出口到中國(guó)大陸,GAA(環(huán)繞柵極)是GAA FET,那么,什么是GAA FET(環(huán)繞柵極場(chǎng)效應(yīng)晶體管)?
2022年6月30日,三星旗下的三星電子早上發(fā)布消息,該公司已經(jīng)開(kāi)始3nm芯片的大批量生產(chǎn)。三星電子宣告,公司名為“3GAE”的3nm環(huán)繞式閘極制程技術(shù)進(jìn)展順利,并于今年的4月份推出該0.1版制程套件(PDK)。三星現(xiàn)在正在其3nm制程節(jié)點(diǎn)上導(dǎo)入GAA架構(gòu),專(zhuān)門(mén)用來(lái)克服FinFET架構(gòu)的實(shí)體微縮和性能限制。
日前,三星在日本舉辦了三星鑄造工廠論壇(SFF)2018年會(huì),更新了技術(shù)路線圖。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),主要有三點(diǎn),一是基于EUV技術(shù)的7nm制程工藝會(huì)在接下來(lái)幾個(gè)季度內(nèi)大規(guī)模量產(chǎn)(初期EUV僅用于選擇層),二是導(dǎo)