聯(lián)華電子(UMC,以下簡稱聯(lián)電)宣布,已順利驗證晶圓代工業(yè)界首個結合12V解決方案的高壓嵌入式快閃記憶體(eFlash)制程。此制程可將中大尺寸之觸控IC所需的驅動高壓,以及存放演算法所需的eFlash,結合于同一顆高整合度
物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展已經(jīng)是大勢所趨,并將給人類生活帶來巨大的變革。而近年來微納米技術的發(fā)展也成為了人們關注的焦點,微納米技術已經(jīng)發(fā)展到什么程度,接下來將會如何發(fā)展,如何適應物聯(lián)網(wǎng)發(fā)展時代背景,讓業(yè)內(nèi)人士十分關
和艦科技(蘇州)有限公司坐落于馳名中外的蘇州工業(yè)園區(qū),是一家具有雄厚外資、制造尖端集成電路的一流晶圓專工企業(yè)。第一座8英寸晶圓廠于2003年5月正式投產(chǎn),總投資超過12億美元,最大月產(chǎn)量可達6萬片。目前和艦是國內(nèi)
上海2012年9月19日電 /美通社/ -- 中芯國際[0.29 0.00%]集成電路制造有限公司("中芯國際",紐約證交所股票代碼:SMI,香港聯(lián)交所代碼:981),中國最大的和最先進的半導體代工廠,今天宣布推出其1.2伏(V)低功耗嵌
接近開關(電感式)具有以下特點:(1)結構簡單,傳感器無活動電觸點,因此工作可靠壽命長。(2)靈敏度和分辨力高,能測出微米的位移變化。傳感器的輸出信號強,電壓靈敏度一般每毫米的位移可達數(shù)百毫伏的輸出。(3)
從芯片數(shù)量看當前,從世界范圍來看,往先進工藝節(jié)點移動的勢頭是很強大的。因為各大晶圓廠在28nm、20nm的投入巨大,將來產(chǎn)能成熟后,預計產(chǎn)能會很大。其成本的誘因是非常大的,使客戶有很大的動力向28、20nm移動。如
藝術有時讓人覺得很親切,有時候讓人覺得很奇妙,有時候讓會讓人驚嘆到說不出話來。但藝術美是共通的,還能夠感染大家,讓大家感受到什么是美。微型雕塑家,無疑是從事藝術事業(yè)中較為獨特的一個群體。因為他們的雕刻
3 仿真分析及具體設計結果3.1 仿真分析在亞微米的ESD結構的設計中,一種常見的具體的ESD瞬態(tài)檢測電壓如圖2 VDD-VSS間的電壓鉗位結構。其原理如下:主要利用結構中的RC延遲作用,一般T=RC被設計為100ns-1000ns之間,而
1 引言ESD(Electric Static Discharge)保護結構的有效設計是CMOS集成電路可靠性設計的重要任務之一,其ESD結構與工藝技術、特征尺寸密切相關,隨著IC工藝技術的進一步發(fā)展,特征尺寸越來越小,管子的柵氧層厚度越來越
超細線蝕刻工藝技術介紹目前,集成度呈越來越高的趨勢,許多公司紛紛開始SOC技術,但SOC并不能解決所有系統(tǒng)集成的問題,因此在封裝研究中心(PRC)以及許多其它研究機構,均將系統(tǒng)封裝(SOP或稱SiP)視為SOC解決方案
臺積電董事長暨總執(zhí)行長張忠謀表示,由于使用者對于諸如智慧型手機或平板電腦等行動裝置產(chǎn)品的功耗與效能要求日益嚴苛,因此促使28nm制程的需求量有增無減;臺積電透過中科十五廠產(chǎn)能調(diào)節(jié)后,已可較上半年提供客戶更多
臺積電董事長暨總執(zhí)行長張忠謀表示,由于使用者對于諸如智慧型手機或平板電腦等行動裝置產(chǎn)品的功耗與效能要求日益嚴苛,因此促使28nm制程的需求量有增無減;臺積電透過中科十五廠產(chǎn)能調(diào)節(jié)后,已可較上半年提供客戶更
臺積電董事長暨總執(zhí)行長張忠謀表示,由于使用者對于諸如智慧型手機或平板電腦等行動裝置產(chǎn)品的功耗與效能要求日益嚴苛,因此促使28nm制程的需求量有增無減;臺積電透過中科十五廠產(chǎn)能調(diào)節(jié)后,已可較上半年提供客戶更
臺積電28奈米(nm)制程代工營收再創(chuàng)佳績。在中科十五廠產(chǎn)能調(diào)節(jié)挹注下,臺積電28奈米供貨不足問題已獲得有效解決,并已開始帶動出貨量持續(xù)向上,預計下半年該產(chǎn)品線可占該公司晶圓銷售營收逾20%。 臺積電董事長暨總執(zhí)
臺積電董事長暨總執(zhí)行長張忠謀表示,由于使用者對于諸如智慧型手機或平板電腦等行動裝置產(chǎn)品的功耗與效能要求日益嚴苛,因此促使28奈米制程的需求量有增無減;臺積電透過中科十五廠產(chǎn)能調(diào)節(jié)后,已可較上半年提供客戶
中國上海,2012年7月30日-上海宏力半導體制造有限公司(以下簡稱“宏力半導體”),專注于差異化技術的半導體制造領先企業(yè),宣布成功開發(fā)出高可靠性的0.13微米嵌入式EEPROM模塊(具有單字節(jié)擦寫能力)。宏力半導體先進的
中國上海,2012年7月30日-上海宏力半導體制造有限公司(以下簡稱“宏力半導體”),專注于差異化技術的半導體制造領先企業(yè),宣布成功開發(fā)出高可靠性的0.13微米嵌入式EEPROM模塊(具有單字節(jié)擦寫能力)。宏力半導體先進的
上海宏力半導體制造有限公司(以下簡稱“宏力半導體”)宣布成功開發(fā)出高可靠性的0.13微米嵌入式EEPROM模塊(具有單字節(jié)擦寫能力)。 宏力半導體先進的0.13微米嵌入式非揮發(fā)性存儲技術,第一次在0.13微米1.5伏低漏電
中國上海,2012年7月30日-上海宏力半導體制造有限公司(以下簡稱“宏力半導體”),專注于差異化技術的半導體制造領先企業(yè),宣布成功開發(fā)出高可靠性的0.13微米嵌入式EEPROM模塊(具有單字節(jié)擦寫能力)。宏力半
中國上海,2012年7月30日-上海宏力半導體制造有限公司(以下簡稱“宏力半導體”),專注于差異化技術的半導體制造領先企業(yè),宣布成功開發(fā)出高可靠性的0.13微米嵌入式EEPROM模塊(具有單字節(jié)擦寫能力)。宏力半導體先