經(jīng)過十余年的發(fā)展,我國LED照明產(chǎn)業(yè)取得了長足的進步。但是,我們也應該注意到,目前有很多企業(yè)陷入了一味追求光效的誤區(qū)。誠然,提高光效能使亮度變高,但是我們要知道,照明產(chǎn)品僅僅依靠一個光效指標是遠遠不夠的,
經(jīng)過十余年的發(fā)展,我國LED照明產(chǎn)業(yè)取得了長足的進步。但是,我們也應該注意到,目前有很多企業(yè)陷入了一味追求光效的誤區(qū)。誠然,提高光效能使亮度變高,但是我們要知道,照明產(chǎn)品僅僅依靠一個光效指標是遠遠不夠的,
經(jīng)過十余年的發(fā)展,我國LED照明產(chǎn)業(yè)取得了長足的進步。但是,我們也應該注意到,目前有很多企業(yè)陷入了一味追求光效的誤區(qū)。誠然,提高光效能使亮度變高,但是我們要知道,照明產(chǎn)品僅僅依靠一個光效指標是遠遠不夠的,
17V 同步降壓轉換器集成 MOSFET,采用微型 HotRod™ 封裝21ic訊 日前,德州儀器 (TI) 宣布推出一款采用極小型 3.5 毫米 × 3.5 毫米 HotRod™ QFN 封裝并集
近日,耶魯大學研究人員合成了銀-鈀核殼燃料電池催化劑,可支持多壁納米碳管結構并應用于燃料電池中。新的催化劑具有獨特的核殼結構,外面包裹的較薄的殼體為鈀,其中的核心
電鍍漆車實際是用電鍍涂層來代替金屬漆或磁性漆的一種工藝。學名叫真空鍍,屬于物理電鍍,環(huán)保。先將汽車要涂漆的外觀件放在真空鍍爐中作為靶材,將金屬蒸發(fā)為氣體狀態(tài)后轟擊靶材。鍍層厚度在納米級別。鍍層可以是貴
引言近年來,由于全球能源危機的影響,白光OLED的研究越來越受到科學界和研究人員的廣泛重視,因為它不僅能夠作為新一代的照明光源,而且還可以作為固體光源應用于制造全彩顯示器和顯示器的背光源。它具有節(jié)能、環(huán)保
一、前言 在線路板的制作過程中,多數(shù)廠家因考慮成本因素仍采用濕膜工藝成像,從而會造成圖形電鍍純錫時難免出現(xiàn)“滲鍍、亮邊(錫薄)”等不良問題的困擾,鑒于此,本人將多年總結出的鍍純錫工藝常見
鄰近效應是一種物理現(xiàn)象,會使相鄰導線中的反方向電流產(chǎn)生相互吸引(見圖4.16)。鄰近效應是由磁場的變化引起的,因此它僅干擾高頻電流的流動。靜態(tài)磁場的恒定電流不會對鄰近效應做出響應。鄰近效應明顯不同于安培發(fā)
長期可靠性的問題,比如電子遷移(EM)失效機制,歷來屬于晶圓廠的處理范疇。但隨著納米設計中可靠性實現(xiàn)的愈加困難,對設計人員而言,不能再把問題扔給制造甩手不管了。設計領域也必須做出努力以獲得更具有魯棒性的
根據(jù)玻耳茲曼傳輸方程,載流子連續(xù)性方程中的電流密度可以通過漂移-擴散模型來表達。在這種情況下,電流密度用費米能級¢n和¢p表示為式中,μn和μp分別為電子和空穴的遷移率;準費米能級同載流子濃度和電勢通
一、前言 在線路板的制作過程中,多數(shù)廠家因考慮成本因素仍采用濕膜工藝成像,從而會造成圖形電鍍純錫時難免出現(xiàn)“滲鍍、亮邊(錫薄)”等不良問題的困擾,鑒于此,本人將多年總結出的鍍純錫工藝常見
OLED具有驅動電壓低、效率高、能實現(xiàn)大面積全色顯示等優(yōu)點,在平板顯示領域引起廣泛的關注,近年來成為國際上的研究熱點。OLED要求材料本身性能好(熱穩(wěn)定性好且具有高的熒光效率),而且還要求載流子注入的平衡及易于
OLED具有驅動電壓低、效率高、能實現(xiàn)大面積全色顯示等優(yōu)點,在平板顯示領域引起廣泛的關注,近年來成為國際上的研究熱點。OLED要求材料本身性能好(熱穩(wěn)定性好且具有高的熒光效率),而且還要求載流子注入的平衡及易于
一、前言 在線路板的制作過程中,多數(shù)廠家因考慮成本因素仍采用濕膜工藝成像,從而會造成圖形電鍍純錫時難免出現(xiàn)“滲鍍、亮邊(錫薄)”等不良問題的困擾,鑒于此,本人將多年總結出的鍍純錫工藝
鄰近效應是一種物理現(xiàn)象,會使相鄰導線中的反方向電流產(chǎn)生相互吸引(見圖4.16)。鄰近效應是由磁場的變化引起的,因此它僅干擾高頻電流的流動。靜態(tài)磁場的恒定電流不會對鄰近效應做出響應。鄰近效應明顯不同于安培發(fā)
針對先進納米Cu互連技術的要求,比較了直流和脈沖兩種電鍍條件下Cu互連線的性能以及電阻率、織構系數(shù)、晶粒大小和表面粗糙度的變化。實驗結果表明,在相同電流密度條件下,脈沖電鍍所得cu鍍層電阻率較低,表面粗糙度較小,表面晶粒尺寸和晶粒密度較大,而直流電鍍所得鍍層(111)晶面的擇優(yōu)程度優(yōu)于脈沖。在超大規(guī)模集成電路Cu互連技術中,脈沖電鍍將有良好的研究應用前景。
對硫酸鹽體系中電鍍得到的Cu鍍層,使用XRD研究不同電沉積條件、不同襯底和不同厚度鍍層的織構情況和擇優(yōu)取向。對比了直流電鍍和脈沖電鍍在有添加劑和無添加劑條件下的織構情況。實驗結果表明,對于在各種條件下獲得的lμm Cu鍍層,均呈現(xiàn)(111)晶面擇優(yōu),這樣的鍍層在集成電路Cu互連線中有較好的抗電遷移性能。
介紹了電感的設計過程和方法,并列舉了一個大功率電感的設計方法,通過理論和實際的結合完成了設計。