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光刻機(jī)制造商阿斯麥：Q1凈利潤(rùn)未達(dá)預(yù)期 產(chǎn)品需求依然強(qiáng)勁

4月16日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，當(dāng)?shù)貢r(shí)間周三，半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）表示，盡管出現(xiàn)了新型冠狀病毒疫情，但客戶對(duì)其產(chǎn)品的需求依然強(qiáng)勁。 當(dāng)?shù)貢r(shí)間周三，阿斯麥公布了2020財(cái)年第一季度財(cái)報(bào)。

荷蘭光刻機(jī)制造商 ASML ：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁

4月15日消息，據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說(shuō)

光刻機(jī)一把手荷蘭ASML：疫情之中 訂單依然強(qiáng)勁

據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。 不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說(shuō)，該公司的設(shè)備

光刻機(jī)制造商ASML：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁

4月15日消息，據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。 不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充

受疫情影響 三星5nm量產(chǎn)計(jì)劃要推遲：損失較大

4月14日消息，據(jù)外媒報(bào)道，荷蘭ASML是全球唯一一家生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的制造商。由于受到疫情影響，荷蘭ASML公司很難將設(shè)備出口，這給三星、臺(tái)積電等在內(nèi)的全球半導(dǎo)體廠商帶來(lái)了負(fù)面影響。 業(yè)內(nèi)人士表示，

光刻機(jī)廠商訂單暴增，一臺(tái)售價(jià)10億元，買家都有誰(shuí)？

光刻機(jī)是半導(dǎo)體生產(chǎn)制造流程中的核心設(shè)備，由于技術(shù)復(fù)雜、廠商壟斷，導(dǎo)致其價(jià)格昂貴。 最近，光刻機(jī)全球領(lǐng)導(dǎo)廠商荷蘭ASML發(fā)布最新報(bào)告，今年一季度，ASML共獲得了73 臺(tái)光刻機(jī)訂單，其中 11 臺(tái)是極紫外EUV光刻機(jī)。 據(jù)介紹，這73 臺(tái)光刻機(jī)訂單金額高達(dá) 30.85 億

光刻機(jī)廠商ASML Q1訂單暴增，天價(jià)設(shè)備都被誰(shuí)買去了?

最近，光刻機(jī)全球領(lǐng)導(dǎo)廠商荷蘭ASML發(fā)布最新報(bào)告，ASML宣布，今年一季度，他們共獲得了73 臺(tái)光刻機(jī)訂單，其中 11 臺(tái)是極紫外EUV光刻機(jī)。這 73 臺(tái)光刻機(jī)訂單中，有 72 臺(tái)將是新生產(chǎn)的光刻機(jī)，另外 1 臺(tái)則是翻新的光刻機(jī)。據(jù)介紹，這73 臺(tái)光刻機(jī)訂單金額高達(dá) 30.85 億歐元，其中11臺(tái)EUV光刻機(jī)的訂單金額為15億歐元。

ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)：分辨率提升70% 逼近1nm極限

在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。 根據(jù)ASML之前的報(bào)告

荷蘭ASML芯片光刻機(jī)工作視頻，看后震撼不已

荷蘭ASML公司 (全稱：Advanced Semiconductor Material Lithography，目前該全稱已經(jīng)不作為公司標(biāo)識(shí)使用，公司的注冊(cè)標(biāo)識(shí)為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥爾（中國(guó)大陸）、艾司摩爾（中國(guó)臺(tái)灣）。 這是一家總部設(shè)在 荷蘭 艾恩德霍芬 （Veldhoven）的全

中芯國(guó)際概述N+1節(jié)點(diǎn)投產(chǎn)計(jì)劃 較14nm工藝更具成本優(yōu)勢(shì)

去年，中芯國(guó)際表示將在四季度開啟基于 14nm FinFET 制程的量產(chǎn)芯片。同時(shí)，該公司也在努力開發(fā)下一代主要節(jié)點(diǎn)（N+1），宣稱具有可媲美 7nm 工藝的部分特性。與中芯國(guó)際自家的 14nm 制程

泛林、ASML研發(fā)EUV新技術(shù)減少90%光刻膠用量 成本大降

2月28日，美國(guó)泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來(lái)的1/10，大幅降低了成本。

面向3nm！ASML將于2021年推下一代EUV光刻機(jī)

ASML公司2019年出貨26臺(tái)EUV光刻機(jī) 明年交付多達(dá)50臺(tái)

荷蘭ASML阿斯麥公司今天發(fā)布了2019年Q4季度及全年財(cái)報(bào)，Q4營(yíng)收40.36億歐元，同比增長(zhǎng)35%，凈利潤(rùn)11.34億歐元，同比增長(zhǎng)81%，全年共計(jì)出貨26臺(tái)EUV光刻機(jī)。 2019年全年，ASM

中國(guó)駐荷蘭大使： “ASML技術(shù)不應(yīng)屬于某些地方”說(shuō)法荒謬

據(jù)中國(guó)駐荷蘭使館網(wǎng)站消息，1月17日，荷蘭國(guó)家公共廣播電視臺(tái)(NOS)就美國(guó)干涉阿斯麥對(duì)華出口極紫外光刻機(jī)一事對(duì)徐宏大使進(jìn)行采訪，并于當(dāng)晚黃金時(shí)段作為新聞節(jié)目頭條進(jìn)行播報(bào)。報(bào)道還采訪了荷蘭首相呂特、經(jīng)貿(mào)大臣卡

ASML EUV光刻機(jī)累計(jì)生產(chǎn)450萬(wàn)塊晶圓：一臺(tái)12億元

截至目前，華為麒麟990 5G是唯一應(yīng)用了EUV極紫外光刻的商用芯片，臺(tái)積電7nm EUV工藝制造，而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。 EUV技術(shù)能夠落地商用，背

Intel 2029年上1.4nm工藝？非官方路線圖

Intel的制程工藝一直備受關(guān)注。今天早些時(shí)候，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML(阿斯麥)放出一張路線圖，赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工藝節(jié)點(diǎn)，尤其是最后這個(gè)將在2029年

ASML擅自修改英特爾工藝路線圖

12月11日，多家外媒報(bào)道ASML在近期的IEEE國(guó)際電子設(shè)備會(huì)議（IEDM）上，公布了一張英特爾未來(lái)10年的工藝路線圖，路線圖顯示英特爾未來(lái)將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。AS

中芯國(guó)際稱7nm EUV光刻機(jī)問(wèn)題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌

在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后，制造越來(lái)越困難，其中最復(fù)雜的一步—;—;光刻需要用到EUV光刻機(jī)了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國(guó)際去年也訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，日前該公司表示

唯一打破ASML光刻機(jī)雙工臺(tái)技術(shù)壟斷：華卓精科擬登陸科創(chuàng)板

近年來(lái)，隨著國(guó)家的大力支持以及國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求的快速增長(zhǎng)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進(jìn)步。 比如在硅刻蝕機(jī)領(lǐng)域，北方華創(chuàng)實(shí)現(xiàn)了14nm設(shè)備的突破，同時(shí)也在去年實(shí)現(xiàn)了適

英特爾首次公開1.4nm工藝？官方：ASML自作主張修改了PPT

據(jù)多家外媒報(bào)道，在IEEE國(guó)際電子設(shè)備會(huì)議(IEDM)上，一張英特爾即將推出的制造工藝的擴(kuò)展路線圖被透露，其中顯示，英特爾未來(lái)將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。而這張圖是由ASML發(fā)言人在會(huì)議上展示的，ASML表示，此圖為英特爾9月在一次光刻會(huì)議上展示的。然而英特爾方面則澄清，這張圖被ASML修改過(guò)了。