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西門子 Calibre 平臺擴(kuò)展早期設(shè)計驗證解決方案
西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日為其集成電路 (IC) 物理驗證平臺 —— Calibre? 擴(kuò)展一系列電子設(shè)計自動化 (EDA) 早期設(shè)計驗證功能，可將物理和電路驗證任務(wù)“左移”， 在設(shè)計和驗證流程的早期階段即能識別、分析并解決復(fù)雜的 IC 和芯片級系統(tǒng) (SoC) 物理驗證問題，進(jìn)而幫助 IC 設(shè)計團(tuán)隊和公司加快流片速度。
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簡化 IC 電路驗證過程的Calibre nmLVS-Recon 技，你知道嗎？
什么是簡化 IC 電路驗證過程的Calibre nmLVS-Recon 技?它有什么作用?為了幫助集成電路 (IC) 設(shè)計人員更快地實現(xiàn)設(shè)計收斂，Mentor, a Siemens business 近日將Calibre? Recon 技術(shù)擴(kuò)展至 Calibre nmLVS 電路驗證平臺。Calibre Recon 技術(shù)于2019年推出，作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴(kuò)展，旨在幫助客戶在早期驗證設(shè)計迭代期間快速、自動和準(zhǔn)確地分析 IC 設(shè)計中的錯誤，從而極大地縮短設(shè)計周期和產(chǎn)品上市時間。
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給大家介紹5個必備的Linux應(yīng)用
Linux需要哪些應(yīng)用程序？ 答案取決于您對Linux桌面的使用目的。 但是，大多數(shù)Linux用戶會安裝一些必備應(yīng)用程序。 今天，小編將介紹5個最重要的Linux應(yīng)用，快來收集它們吧。
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Mentor Graphics 推出針對 Tanner 模擬/混合信號 IC 設(shè)計環(huán)境的 Tanner Calibre One 驗證套件
21ic訊—Mentor Graphics®公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)今天宣布推出 Tanner Calibre One IC 驗證套件，作為 Tanner™ 模擬/混合信號 (AMS) 物理設(shè)計環(huán)境不可或缺的一部分，使 Tanner EDA 的用戶群可以輕松使用 Calibre® 驗證工具的所有功能。
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Mentor Graphics宣布與GLOBALFOUNDRIES合作開發(fā)適用于 22FDX平臺的設(shè)計參考流程和工藝設(shè)計套件
Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)近日宣布，正與 GLOBALFOUNDRIES 展開合作，認(rèn)證 Mentor® RTL 到 GDS 平臺(包括RealTime Designer™ 物理 RTL 合成解決方案和 Olympus-SoC™ 布局布線系統(tǒng))能
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SMIC透過Calibre PERC平臺為IP認(rèn)證方案添加可靠性檢查
Mentor Graphics公司近日宣布，中芯國際集成電路制造有限公司(Semiconductor Manufacturing International Corporation, SMIC)將在其IP認(rèn)證計劃中加入新的電路可靠性檢查，使用Calibre PERC產(chǎn)品。可靠性驗證有助于
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Calibre xACT 產(chǎn)品可滿足寄生電路參數(shù)提取需求
Mentor Graphics 公司宣布推出全新 Calibre xACT 寄生電路參數(shù)提取平臺，該平臺可滿足包括 14nm FinFET 在內(nèi)廣泛的模擬和數(shù)字電路參數(shù)提取需求，同時最大限度地減少 IC 設(shè)計工程師的猜測和設(shè)置功夫
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明導(dǎo)CEO：如何解決制程工藝帶來的新挑戰(zhàn)
隨著20nm SoC已進(jìn)入開發(fā)階段，14nm、10nm甚至7nm工藝均在逐步推進(jìn)中。眾所周知，在EDA行業(yè)，20nm工藝要解決的是支持雙重圖形(Double Patterning)的問題。明導(dǎo)公司(Mentor
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Mentor設(shè)計和驗證工具獲得TSMC 16nm FinFET生產(chǎn)認(rèn)證
Mentor Graphics公司宣布，其集成電路設(shè)計到制造的整套解決方案已獲得TSMC 16nm FinFET工藝的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)和1.0版本SPICE模型認(rèn)證。 該認(rèn)證包括的工具有Calibre物理驗證及可制造性設(shè)計(DFM)平臺、Olympus-SoC
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聯(lián)詠科技采用Calibre xACT提取工具提升布局后芯片仿真結(jié)果
明導(dǎo)國際(Mentor Graphics)近日宣布，聯(lián)詠科技(Novatek Microelectronics)采用Calibre® xACT™ 3D提取工具來精準(zhǔn)確認(rèn)電路之寄生參數(shù)，以提升布局后(post-layout)芯片仿真的結(jié)果。Calibre xACT 3D產(chǎn)品具備
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聯(lián)詠科技采用Calibre xACT提取工具實現(xiàn)高準(zhǔn)確度的布局后仿真
明導(dǎo)國際(Mentor Graphics)今天宣布，聯(lián)詠科技(Novatek Microelectronics)采用Calibre® xACT™ 3D提取工具來精準(zhǔn)確認(rèn)電路之寄生參數(shù)，以提升布局后(post-layout)芯片仿真的結(jié)果。Calibre xACT 3D產(chǎn)品具備完
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Mentor Graphics工具被納入臺積電3D－IC參考流程
Mentor Graphics 公司近日宣布其解決方案已由臺積電使用真正3D堆疊測試方法進(jìn)行了驗證，可用于臺積電3D-IC參考流程。該流程將對硅中介層產(chǎn)品的支持?jǐn)U展到也支持基于TSV的、堆疊的die設(shè)計。具體的Mentor®貢獻(xiàn)包括
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AWSC選擇Mentor Graphics Calibre納米平臺用于驗證先進(jìn)砷化鎵無線集成電路
【導(dǎo)讀】Mentor Graphics公司近日宣布，AWSC已經(jīng)選擇Calibre? nmDRC?和nmLVS?產(chǎn)品作為其針對手機(jī)和其他無線應(yīng)用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務(wù)的一部分，AWSC將為客戶提供Calibr
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AWSC選擇Mentor Calibre納米平臺用于驗證先進(jìn)砷化鎵無線集成電路
Mentor Graphics公司日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機(jī)和其他無線應(yīng)用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務(wù)的
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AWSC選擇Mentor Graphics Calibre納米平臺驗證先進(jìn)砷化鎵
Mentor Graphics公司今天宣布，宏捷科技股份有限公司（AWSC）已經(jīng)選擇Calibre? nmDRC?和nmLVS?產(chǎn)品作為其針對手機(jī)和其他無線應(yīng)用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作為其提供的代工服務(wù)的一部分，AWSC將
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AWSC選擇Calibre納米平臺用于驗證先進(jìn)砷化鎵無線集成電路
Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機(jī)和其他無線應(yīng)用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。
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Mentor Graphics為飛思卡爾提供Tessent晶片測試、良率分析、Calibre物理驗證
【導(dǎo)讀】Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)近日宣布飛思卡爾半導(dǎo)體公司(Freescale?)(紐交所代碼：FSL，F(xiàn)SL.B)已選定Mentor作為其在晶片測試、良率分析、物理驗證和DFM技術(shù)領(lǐng)域的理想合作伙伴。 此次合作
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AWSC選擇Calibre納米平臺用于驗證先進(jìn)砷化鎵無線集成電路
Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)日前宣布，宏捷科技股份有限公司(AWSC)已經(jīng)選擇Calibre® nmDRC™和nmLVS™產(chǎn)品作為其針對手機(jī)和其他無線應(yīng)用中砷化鎵集成電路的金級核簽物理驗證解決方案。作
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明導(dǎo)CEO：如何解決制程工藝帶來的新挑戰(zhàn)?
【導(dǎo)讀】隨著20nm SoC已進(jìn)入開發(fā)階段，14nm、10nm甚至7nm工藝均在逐步推進(jìn)中。明導(dǎo)公司(Mentor Graphics)董事長兼首席執(zhí)行官Walden C. Rhines為大家解析14nm級以后工藝所面臨的挑戰(zhàn)，明導(dǎo)公司在該方面有何作為? 摘
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明導(dǎo)CEO：微細(xì)化程度越高 可靠性設(shè)計越重要
赴日訪問的明導(dǎo)公司(Mentor Graphics Corp.)董事長兼首席執(zhí)行官阮華德(Walden C. Rhines)接受了本站記者的采訪。阮華德詳細(xì)介紹“More Moore”——首先想就半導(dǎo)體領(lǐng)域問幾個問題。20nm SoC已進(jìn)入
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