EUV光刻機(jī)

單價(jià)超10億元 Intel臺積電三星每年需要多少EUV光刻機(jī)？

作為半導(dǎo)體行業(yè)最重要的生產(chǎn)設(shè)備，光刻機(jī)實(shí)在太重要了，整個(gè)芯片生產(chǎn)1/3的時(shí)間及成本都耗費(fèi)在光刻上，EUV光刻機(jī)更是只有荷蘭ASML一家公司能產(chǎn)，單臺售價(jià)超過10億元，這個(gè)生意一般人做不了。 半導(dǎo)體工藝

荷蘭 ASML 公司被禁止向中國出口EUV光刻機(jī)

極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常常被稱作EUV光刻。光刻機(jī)決定著半導(dǎo)體工藝的制程工藝，7nm以及以上的工藝離不開EUV光刻機(jī)，EUV光刻技術(shù)使晶體管密度和性能都變得更好。因而EUV光刻機(jī)成為眾多半導(dǎo)體廠商的心頭之好。

EUV光刻機(jī)斷貨 臺積電5nm工藝搶三星頭彩：A14/麒麟1020首發(fā)

臺積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財(cái)報(bào)，營收同比大漲了42%，淡季不淡。不過接下來的日子半導(dǎo)體行業(yè)可能不太好過了，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)斷貨，要延期交付，好在臺積電今年已經(jīng)在5nm工藝上搶先三星了。

光刻機(jī)廠商訂單暴增，一臺售價(jià)10億元，買家都有誰？

光刻機(jī)是半導(dǎo)體生產(chǎn)制造流程中的核心設(shè)備，由于技術(shù)復(fù)雜、廠商壟斷，導(dǎo)致其價(jià)格昂貴。 最近，光刻機(jī)全球領(lǐng)導(dǎo)廠商荷蘭ASML發(fā)布最新報(bào)告，今年一季度，ASML共獲得了73 臺光刻機(jī)訂單，其中 11 臺是極紫外EUV光刻機(jī)。 據(jù)介紹，這73 臺光刻機(jī)訂單金額高達(dá) 30.85 億

沒有2億美元?jiǎng)e上6nm 展銳科普：5G處理器虎賁T7520強(qiáng)在哪？

目前上市的5G處理器還是7nm的，前不久紫光展銳發(fā)布了虎賁T7520，全球首發(fā)6nm EUV工藝，展銳表示沒有2億美元就別想做6nm芯片。 虎賁T7520則是基于馬卡魯2.0平臺，單芯片集成5G基帶。

ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)：分辨率提升70% 逼近1nm極限

在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。 根據(jù)ASML之前的報(bào)告

臺積電7/6/5nm工藝供不應(yīng)求 史上最高開支狂買EUV光刻機(jī)

作為全球晶圓代工廠的一哥，TSMC臺積電今年在先進(jìn)制程上的優(yōu)勢還會(huì)進(jìn)一步加強(qiáng)，除了7nm供不應(yīng)求之外，6nm及5nm工藝也會(huì)量產(chǎn)，以滿足蘋果、華為、高通等大客戶需求。 為此臺積電2020年的資本開支再

面向3nm！ASML將于2021年推下一代EUV光刻機(jī)

中芯國際搞定7nm EUV光刻機(jī)？官方稱報(bào)道不實(shí)

半導(dǎo)體工藝的進(jìn)步一直備受關(guān)注，尤其是國產(chǎn)半導(dǎo)體技術(shù)差距依然很大，每一步都走得很艱難，每一步都令人鼓舞。 日前，韓國媒體報(bào)道稱，國內(nèi)最大代工廠中芯國際的董事長周子學(xué)博士在韓國訪問期間透露，已經(jīng)與荷蘭光刻

ASML回應(yīng)對中國廠商斷供光刻機(jī)：全球客戶一視同仁

今天鬧得沸沸揚(yáng)揚(yáng)的ASML光刻機(jī)對中國廠商斷供一事，ASML公司官方也發(fā)表了聲明，否認(rèn)了延遲出貨、斷供等說法，稱媒體報(bào)道有誤，ASML對全球客戶是一視同仁的。 這次外媒報(bào)道來源于日本的日經(jīng)新聞獨(dú)家新聞

1納米可期！ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)

半導(dǎo)體制造過程中最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻，光刻機(jī)也因此成為最重要的半導(dǎo)體制造設(shè)備。在7nm制程的較量中，臺積電之所以能夠領(lǐng)先，一個(gè)很重要的原因就是EUV技術(shù)，在半導(dǎo)體制造的工藝中，這部分的成本就能

華虹無錫基地首批光刻工藝設(shè)備進(jìn)場，9月試生產(chǎn)

2019年6月6日，華虹無錫集成電路研發(fā)和制造基地(一期)12 英寸生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目首批三臺光刻機(jī)搬入儀式舉行。光刻設(shè)備的搬入標(biāo)志著華虹無錫基地項(xiàng)目建設(shè)進(jìn)入新的里程，整個(gè)項(xiàng)目也隨即達(dá)到新高度。

為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV

晶圓制造產(chǎn)業(yè)進(jìn)入7納米制程之后，目前全世界僅剩臺積電與三星，再加上號稱自家10納米制程優(yōu)于競爭對手7納米制程的英特爾等，有繼續(xù)開發(fā)能力之外，其他競爭者因須耗費(fèi)大量金錢與人力物力的情況下，都已宣布放棄。

半導(dǎo)體先進(jìn)制程發(fā)展擴(kuò)大EUV市場需求，ASML可望持續(xù)受惠

在先進(jìn)制程納米節(jié)點(diǎn)持續(xù)微縮下，光刻機(jī)是重要關(guān)鍵設(shè)備。12寸晶圓主要光刻機(jī)為ArF immersion機(jī)臺，可覆蓋45nm一路往下到7nm節(jié)點(diǎn)的使用范圍，其雷射光波長最小微縮到193nm；針對7nm節(jié)點(diǎn)以下的制程，EUV(Extreme Ultra-Violet)極紫外光使用光源波長為13.5nm，確保先進(jìn)制程持續(xù)發(fā)展的可能性。

英特爾在考量什么？繼續(xù)減持ASML股份，已不足3%

當(dāng)時(shí)，英特爾投資了41億美元，交易有效期為5年，英特爾將擁有ASML 15%的股份，同時(shí)為ASML的研發(fā)項(xiàng)目投資33億美元。

ASML對EUV光刻機(jī)前景表示樂觀，最先進(jìn)光刻機(jī)很快將入華

盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀。

1.2億美元!中芯國際下單ASML EUV光刻機(jī)

近日消息，中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經(jīng)向荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML訂購了一臺EUV設(shè)備，EUV是當(dāng)前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最先進(jìn)也最昂貴的芯片制造設(shè)備，這臺設(shè)備價(jià)值1.2億美元，差不多花費(fèi)了中芯一季度營收的14%。EUV對于

EUV光刻機(jī)之戰(zhàn)，ASML坐收漁翁之利

《巴倫》報(bào)導(dǎo)，芯片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾ASML的表現(xiàn)，可能要比大多數(shù)人想像的要好，瑞士信貸分析師Farhan Ahmad即認(rèn)為，艾司摩爾的產(chǎn)品是芯片制造商臺積電與競爭對手三星電子( 005930-KR )爭奪霸主地位的關(guān)鍵要素，估計(jì)可以在鷸蚌相爭中，漁翁得利。

EUV遭受新挫折 半導(dǎo)體10nm工藝步伐蹉跎

ASML的量產(chǎn)型EUV光刻機(jī)在TSMC現(xiàn)場初試時(shí)出現(xiàn)失誤。在2014年加州SanJose舉行的先進(jìn)光刻技術(shù)會(huì)議上TSMC演講中透露此消息,由于EUV光源內(nèi)的激光機(jī)械部分出現(xiàn)異位導(dǎo)致光源破裂。因此EUV光刻機(jī)停擺。TSMC的下一代光刻部經(jīng)理

EUV遭受新挫折 半導(dǎo)體10nm工藝步伐蹉跎

ASML的量產(chǎn)型EUV光刻機(jī)在TSMC現(xiàn)場初試時(shí)出現(xiàn)失誤。在2014年加州SanJose舉行的先進(jìn)光刻技術(shù)會(huì)議上TSMC演講中透露此消息，由于EUV光源內(nèi)的激光機(jī)械部分出現(xiàn)異位導(dǎo)致光源破裂。因此EUV光刻機(jī)停擺。TSMC的下一代光刻部經(jīng)