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光源問題仍是EUV光刻技術(shù)中的難題
GlobalFoundries公司的光刻技術(shù)專家Obert Wood在最近召開的高級半導(dǎo)體制造技術(shù)會議ASMC2011上表示，盡管業(yè)界在改善EUV光刻機用光源技術(shù)方面取得了一定成效，但光源問題仍是EUV光 刻技術(shù)成熟過程中最“忐忑”的因素。
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ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達(dá)10臺 預(yù)計2012年開始正式交貨
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，
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ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達(dá)10臺 預(yù)計2012年開始正式交貨
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(ImmersionScanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，對
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ASML單價近一億美元EUV光刻機訂單已達(dá)10臺
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨;不過，對
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比利時IMEC宣布已安裝ASML NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機
比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC最近宣布在其設(shè)在比利時魯汶的研究設(shè)施中安裝了一臺ASML生產(chǎn)的NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機。IMEC機構(gòu)的總裁 兼CEO Luc Van den hove會在今天召開的SPIE高級光刻技術(shù)會議（SPIE advanced lithog
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EUV光刻機價格暴漲至近億美元
多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經(jīng)預(yù)測稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價有可能提升到1.25億美元的水平?！碑?dāng)時幾乎所有的人都認(rèn)為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種
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IMEC將在2010年上半年制預(yù)投產(chǎn)EUV光刻機
據(jù)EETimes報道，歐洲研發(fā)機構(gòu)IMEC首席運營官Luc Van den Hove表示，IMEC將在2010年上半年制成預(yù)投產(chǎn)EUV（極紫外）光刻設(shè)備。 按照目前的進(jìn)程，該設(shè)備將于2012年在IMEC的300mm生產(chǎn)線上投產(chǎn)。盡管對于EUV在商業(yè)制造中
