EUV光刻機(jī)

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臺(tái)積電準(zhǔn)備啟動(dòng)首臺(tái)EUV光刻機(jī)

臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司（“臺(tái)積電”）即將在兩周后啟動(dòng)首臺(tái)EUV光刻機(jī)。這表示臺(tái)積電的下一步將是評(píng)估用于生產(chǎn)下一代芯片的三種光刻機(jī)。臺(tái)積電納米成像部副總裁林本堅(jiān)表示：“臺(tái)積電是唯一一家

智能硬件
2011-09-11

臺(tái)積電 EUV光刻機(jī) BSP 節(jié)點(diǎn)
光源問題仍是EUV光刻技術(shù)中的難題

GlobalFoundries公司的光刻技術(shù)專家Obert Wood在最近召開的高級(jí)半導(dǎo)體制造技術(shù)會(huì)議ASMC2011上表示，盡管業(yè)界在改善EUV光刻機(jī)用光源技術(shù)方面取得了一定成效，但光源問題仍是EUV光刻技術(shù)成熟過程中最“忐忑”的因素。

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2011-06-23

反射光刻技術(shù) EUV EUV光刻機(jī)
ASML單價(jià)近一億美元的EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)　預(yù)計(jì)2012年開始正式交貨

2010年浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨；不過，

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2011-05-19

DRAM ASML EUV EUV光刻機(jī)
ASML單價(jià)近一億美元的EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)　預(yù)計(jì)2012年開始正式交貨

2010年浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(ImmersionScanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨；不過，對(duì)

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2011-05-18

DRAM ASML EUV EUV光刻機(jī)
ASML單價(jià)近一億美元EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)

2010年浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨;不過，對(duì)

電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化
2011-05-18

DRAM ASML EUV EUV光刻機(jī)
比利時(shí)IMEC宣布已安裝ASML NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機(jī)

比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC最近宣布在其設(shè)在比利時(shí)魯汶的研究設(shè)施中安裝了一臺(tái)ASML生產(chǎn)的NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機(jī)。IMEC機(jī)構(gòu)的總裁兼CEO Luc Van den hove會(huì)在今天召開的SPIE高級(jí)光刻技術(shù)會(huì)議（SPIE advanced lithog

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2011-03-01

光刻技術(shù) ASML SPI EUV光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)價(jià)格暴漲至近億美元

多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經(jīng)預(yù)測(cè)稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價(jià)有可能提升到1.25億美元的水平?！碑?dāng)時(shí)幾乎所有的人都認(rèn)為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種

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2010-11-21

ASML ADT ALPHA EUV光刻機(jī)
IMEC將在2010年上半年制預(yù)投產(chǎn)EUV光刻機(jī)

據(jù)EETimes報(bào)道，歐洲研發(fā)機(jī)構(gòu)IMEC首席運(yùn)營官Luc Van den Hove表示，IMEC將在2010年上半年制成預(yù)投產(chǎn)EUV（極紫外）光刻設(shè)備。按照目前的進(jìn)程，該設(shè)備將于2012年在IMEC的300mm生產(chǎn)線上投產(chǎn)。盡管對(duì)于EUV在商業(yè)制造中

半導(dǎo)體
2008-10-23

光刻 EUV EUV光刻機(jī) BSP

EUV光刻機(jī)

臺(tái)積電準(zhǔn)備啟動(dòng)首臺(tái)EUV光刻機(jī)

光源問題仍是EUV光刻技術(shù)中的難題

ASML單價(jià)近一億美元的EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)　預(yù)計(jì)2012年開始正式交貨

ASML單價(jià)近一億美元的EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)　預(yù)計(jì)2012年開始正式交貨

ASML單價(jià)近一億美元EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)

比利時(shí)IMEC宣布已安裝ASML NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機(jī)

EUV光刻機(jī)價(jià)格暴漲至近億美元

IMEC將在2010年上半年制預(yù)投產(chǎn)EUV光刻機(jī)

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