EUV光刻機再出新規(guī)：臺積電、三星、英特爾都在爭奪EUV光刻機訂單

極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機，于2019年初交貨。阿斯麥公司掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。最新的兩代高端光刻機領域，即浸入式(Immersion)和極紫外線式(EUV)光刻機，全部由阿斯麥掌握核心技術。

光刻機(又稱曝光機)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只有少數(shù)廠家掌握。光刻機的作用是掃描曝光芯片晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機，能生產(chǎn)出納米尺寸更小，功能更強大的芯片。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。

大家都知道，光刻機是生產(chǎn)制造芯片必不可少的設備，而全球只有四家先進的光刻機廠商，分別是荷蘭ASML、日本佳能和尼康、上海微電子，其中ASML是光刻機領域的“天花板”，不僅可以生產(chǎn)制造DUV光刻機，還可以生產(chǎn)EUV光刻機，同時也是全球唯一一家可以生產(chǎn)EUV光刻機的廠商。

毫不夸張地說，ASML幾乎拿捏了全球半導體芯片行業(yè)的“生殺大權”，從三星、臺積電都求著ASML出售光刻機就能看出來。要知道，臺積電之所以能成為全球最大的芯片代工廠，就是因為購買了大量ASML生產(chǎn)的EUV光刻機。因此，EUV光刻機的重要性就不言而喻了。

然而，光刻機的缺失也是我們半導體產(chǎn)業(yè)遇到的最大的難題，尤其是EUV光刻機，并非是我們買不起，而是因為ASML生產(chǎn)線上包含了美技術和配件，在老美擅自修改規(guī)則之內(nèi)，所以，ASML不能自由供貨給中國企業(yè)。

伴隨著芯片危機和科技制裁等熱議話題的出現(xiàn)，光刻機尤其是極紫外和深紫外EUV光刻機不可避免的成為時下科技界議論與發(fā)展的對象。因為在芯片的制造過程中，光刻機是個無法規(guī)避的核心設備，尤其是7nm制程以下的先進制程，更是離不開先進的EUV光刻機，少了它，即使代工領域強如臺積電，也只能感慨巧婦難為無米之炊。

但是，EUV光刻機在全球范圍內(nèi)又可以說少的可憐，先進的EUV光刻機可以說是100%被荷蘭光刻機巨頭ASML所壟斷，但由于它是集各大國科技之長，導致ASML的產(chǎn)能也非常有限。據(jù)統(tǒng)計報道，ASML的EUV光刻機每年也僅僅能生產(chǎn)30～40臺，產(chǎn)能一直處于供不應求的狀態(tài)。

當然，產(chǎn)能有限并不影響市場需求，面對著無限擴大的芯片市場，尤其是亞洲市場，ASML不可能無動于衷。而在ASML CEO的此次韓國造訪過程中，關鍵還確認了一份其在今年5月宣布的計劃，即阿斯麥將計劃投資2400億韓元，在韓國華城建立一個用于極紫外和深紫外光刻機設備的高科技研發(fā)中心，其中包括制造工廠和培訓中心，預計2025年落成。

當通用等車企宣布減產(chǎn)的時候，我們還只是以為汽用芯片短期內(nèi)不夠用，但是當蘋果也宣布減產(chǎn)計劃的時候，也就更加意識到缺芯已經(jīng)是很嚴重的事情。而美一方面為了是芯片制造回流，一方面為了能夠掌握該領域的具體情況，于是不僅邀請三星、臺積電過去建廠，還拿出520億作為補貼，刺激本土相關產(chǎn)業(yè)發(fā)展，但更是要求臺積電、三星上交相關數(shù)據(jù)。

本來特不靠譜修改出口規(guī)則之后大家都有所行動，如今看來，在缺芯和“自主”的情況下，全球擴產(chǎn)也是勢在必行。造芯必然是需要使用到生產(chǎn)設備，而荷蘭的EUV光刻機也就顯得更加重要，因為就目前而言也只有ASML能夠制造出來，但因為需求量過大，據(jù)說到了現(xiàn)在手里還積攢幾十億歐元的訂單沒有交貨。偏偏在最近，ASML頻繁出來動作，這使得三星、臺積電都沒有想到，而網(wǎng)友更是直呼，這針對性是不是太明顯了?ASML示好國內(nèi)市場，目的也很明確。

前段時間ASML對外表示，現(xiàn)在可以自由出貨DUV光刻機于華，至于EUV光刻機還沒有啥動靜。我們知道現(xiàn)在哪怕是14nm也是需要EUV光刻機的，更別說先進的7nm和5nm，DUV光刻機能夠自由出貨自然是好事，只不過就目前來看，這是定在了成熟工藝范圍內(nèi)。為啥ASML會示好中國?其實道理很簡單，那就是市場問題。

光刻機制造技術最先進的廠商是ASML，因為在中高端光刻機領域內(nèi)，ASML幾乎占領了市場，尤其是EUV光刻機，目前僅有ASML能夠研發(fā)制造。

要知道，EUV光刻機是目前最先進的光刻機，更是目前唯一能夠用于生產(chǎn)制造7nm及以下芯片的光刻機設備。

由于EUV光刻機的技術過于先進，臺積電、三星、英特爾等芯片制造企業(yè)都在爭奪EUV光刻機訂單。

一旦國產(chǎn)元器件打入ASML光刻機供應鏈中，其進一步實現(xiàn)自由出貨并不是沒有可能的。

最后，ASML擴大在國內(nèi)的研發(fā)中心，實際上就讓國內(nèi)團隊參與到光刻機相關技術的研發(fā)與設計中，也能夠促進國內(nèi)光刻機技術的發(fā)展。

數(shù)據(jù)顯示，ASML光刻機中的部分技術就是國內(nèi)團隊研發(fā)的，而國內(nèi)團隊研發(fā)的技術越多，這意味著ASML光刻機中的美系技術占比就會越少。