鰭式場效晶體管的出現(xiàn)對集成電路物理設計及可測性設計流程具有重大影響。鰭式場效晶體管的引進意味著在集成電路設計制程中互補金屬氧化物(CMOS)晶體管必須被建模成三維(3D)的器件,這就包含了各種復雜性和不確定性
摩爾定律(Moore’sLaw)將在未來的十年持續(xù)發(fā)展,但每單位晶體管成本下跌的速度將隨之減緩,無法再像過去一樣快速降低了。根據(jù)新思科技董事長兼首席執(zhí)行官AartdeGeus表示,芯片設計越來越復雜,逐漸推遲向更大晶
摩爾定律(Moore'sLaw)將在未來的十年持續(xù)發(fā)展,但每單位晶體管成本下跌的速度將隨之減緩,無法再像過去一樣快速降低了。根據(jù)新思科技董事長兼首席執(zhí)行官AartdeGeus表示,芯片設計越來越復雜,逐漸推遲向更大晶圓的過
摩爾定律(Moore'sLaw)將在未來的十年持續(xù)發(fā)展,但每單位晶體管成本下跌的速度將隨之減緩,無法再像過去一樣快速降低了。根據(jù)新思科技董事長兼首席執(zhí)行官AartdeGeus表示,芯片設計越來越復雜,逐漸推遲向更大晶圓的過
鰭式場效晶體管的出現(xiàn)對集成電路物理設計及可測性設計流程具有重大影響。鰭式場效晶體管的引進意味著在集成電路設計制程中互補金屬氧化物(CMOS)晶體管必須被建模成三維(3D)的器件,這就包含了各種復雜性和不確定性
綜合報道:美國能源部國家直線加速器實驗室(SLAC)和斯坦福大學的一項研究首次揭示了石墨烯插層復合材料的超導機制,并發(fā)現(xiàn)一種潛在的工藝能使石墨烯這個具有廣闊應用前景的“材料之王”獲得人們夢寐
不僅實現(xiàn)更低導通電阻,還非常有助于智能手機和可穿戴式設備的小型化與高性能化21ic訊—日本知名半導體制造商ROHM(總部位于日本京都)近日面向智能手機和可穿戴式設備等各種要求小型和薄型的電子設備,開發(fā)出世界
英特爾近日公布了一些即將發(fā)布的15核心“IVYtown”至強處理器的細節(jié),這款處理器將繼承43.1億個晶體管,面向高端服務器。“Ivytown”將成為至強E7產(chǎn)品
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液晶面板以前是日本的“看家本事”,但最近,縮小生產(chǎn)及退出生產(chǎn)等景氣不佳的話題卻很多,液晶面板的相關報道也越來越少。最近的液晶面板技術及市場如何?筆者就這個問題將以前輩與后輩之間的問答形式來為
晶體管升壓電路
LED非常耐用且節(jié)能。近日,德國恩霍夫應用固體物理研究所的研究人員開發(fā)了另一種使LED燈更緊湊且更亮的技術,該技術的功臣是采用了氮化鎵半導體材料的晶體管。 由于全球開始禁售白熾燈,專家預測LED替換燈將在2015年
FinFET晶體管大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術或者另一種FDSOI工藝的平面技術,有望可縮
FinFET晶體管大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術或者另一種FDSOI工藝的平面技術,有望可縮
大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術或者另一種FDSOI工藝的平面技術,有望可縮小到10nm節(jié)點
莫大(博客,微博)康編譯 大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們? 在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術或者另一種FD SOI工藝的
ARM日前宣布針對2015年及未來快速成長的主流移動與消費電子產(chǎn)品市場,推出強化版具有更高性能和功耗效率的IP套件系列產(chǎn)品,包括處理器Cortex-A17、顯示處理器、圖形處理器Mali-T720 GPU和物理IP。新聞發(fā)布會上,ARM全
ARM日前宣布針對2015年及未來快速成長的主流移動與消費電子產(chǎn)品市場,推出強化版具有更高性能和功耗效率的IP套件系列產(chǎn)品,包括處理器Cortex-A17、顯示處理器、圖形處理器M
帶有阻容正反饋的正弦同步重置控制的晶體管觸發(fā)電路
電容充放電進行移相的晶體管觸發(fā)電路