日前韓國今日電子新聞報道稱三星計劃斥巨資進口大量的半導體設備,其中包括更多的 ASML 極紫外(EUV)光刻設備。盡管因為合同中的保密條款未能披露具體細節(jié),但證券市場消息稱,該協議將使 ASML 在五年內提供總共 50 套設備,而每臺單價約為 2000 億韓元(當前約合人民幣 11.16 億),總價值可達 10 萬億韓元(當前約合人民幣 558 億)。
ASML預計2023年第四季度的凈銷售額在67億至71億歐元之間,毛利率在50%至51%之間。
9月7日消息,ASML宣布,將在今年底發(fā)貨第一臺支持高NA(數值孔徑)的EUV極紫外光刻機,型號“Twinscan EXE:5000”。
今年 6 月的時候,荷蘭政府正式宣布了針對先進半導體設備出口的新規(guī),即相關企業(yè)(ASML)在出口先進半導體設備之前必須獲得政府的許可證,否則將被禁止。該規(guī)定已于上周五(9 月 1 日)生效,但近日荷蘭政府通過了 ASML 的許可證,即年底之前 ASML 的先進浸沒式深紫外光刻設備 (DUV) 將繼續(xù)出口中國。
作為半導體制造中的核心裝備之一,光刻機至關重要,7nm以下工藝所需的EUV光刻機只有ASML公司能生產,售價達到10億以上,不過今年EUV的勢頭熄火了,DUV光刻機需求反而暴漲。
2023年第二季度,ASML實現了凈銷售額69億歐元(約合人民幣555億元),同比增長27%。對此,ASML總裁兼CEO彼得·溫寧克(Peter Wennink)表示,這主要得益于本季度浸潤式DUV光刻機的超額營收,以及在第二季度開始浸潤式設備快速發(fā)貨帶來的收入確認。
據業(yè)內消息,近日荷蘭光刻機巨頭 ASML 發(fā)布了今年二季度的營收數據報表,其中凈銷售額為 69 億歐元,超過了之前預期的 66.9 億歐元,同比上漲 19.4%。
光刻機巨頭阿斯麥(ASML)在官網公布了2023年二季度的營收數據,由于DUV光刻機收入增加,該季度營收為69億歐元,超出市場預期(66.9億歐元),凈利潤19億歐元,毛利率為51.3%;第二季度訂單額45億歐元,同樣超出市場預期(39.8億歐元),其中EUV光刻機訂單價值16億歐元。
ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink表示:“我們第二季度的凈銷售額為69億歐元,處于預測營收區(qū)間的高位;毛利率為51.3%,超出預期目標。這主要得益于本季度浸潤式DUV光刻機的超額營收?!?/p>
7月13日消息,《歐洲芯片法案》的結果已經出爐,高達近500億元的補貼將啟動,為的是打造自主半導體產業(yè)鏈。
日前有報道稱,ASML將面向中國市場推出特別版DUV光刻機,不過此事已經辟謠,ASML表示一直以來ASML都遵守所適用的法律條例,公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。
據業(yè)內消息,在荷蘭對光刻機實施了出口管制措施之后,業(yè)內頻傳言 ASML 將規(guī)避該措施為中國市場推出特供 DUV 光刻機,近日 ASML 官方專門對此進行了回應。
近日,ASML在其官網發(fā)表聲明稱,該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng))時,將需要向荷蘭政府申請出口許可證。
據業(yè)內消息,近日荷蘭半導體設備巨頭 ASML 和比利時微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進高數值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作,為使用半導體技術的行業(yè)提供原型設計平臺和未開發(fā)的未來機遇。
當地時間6月30日,荷蘭政府正式頒布了有關先進半導體設備的額外出口管制的新條例。光刻機巨頭ASML表示,新規(guī)只涉及部分最新的DUV型號,包括TWINSCAN NXT:2000i以及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。
比利時微電子研究中心 (IMEC) 、阿斯麥 (ASML) 共同宣布,雙方將在開發(fā)先進高數值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作。
業(yè)內消息,荷蘭政府的半導體新規(guī)預計最快會在下周開始實施,屆時 ASML 的 DUV 光刻機將被限制出口。
據報道,在半導體工藝進入7nm節(jié)點之后,EUV光刻機是少不了的關鍵設備,目前只有ASML能制造,單臺售價10億人民幣,今年底還會迎來下一代EUV光刻機,價格也會大漲。
4月28日消息,對于中國市場而言,ASML正在全力以赴,預計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右(約合人民幣超162億元),其正在加快拓展在中國的業(yè)務和銷售。
相比2022年,今年阿斯麥(ASML)的凈銷售額有望增長25%以上。