這是我們EDA云實(shí)證的第四期。本期實(shí)證的主角是——Virtuoso。半導(dǎo)體行業(yè)中使用范圍最廣的EDA應(yīng)用之一。1991年Virtuoso技術(shù)正式發(fā)布,最初作為掩模設(shè)計(jì)師的版圖工具,是Opus平臺(tái)的一部分,主要功能包括電路設(shè)計(jì)與仿真、版圖設(shè)計(jì)、設(shè)計(jì)驗(yàn)證,以及模擬/數(shù)字混合設(shè)計(jì)等。近...
該解決方案結(jié)合Virtuoso平臺(tái)與Allegro及Sigrity技術(shù),進(jìn)一步簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)流程,大幅提高設(shè)計(jì)效率,縮短設(shè)計(jì)周期
下一代定制設(shè)計(jì)平臺(tái)大幅提升先進(jìn)工藝生產(chǎn)力楷登電子(美國Cadence公司)今日正式發(fā)布針對(duì)7nm工藝的全新Virtuoso® 先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺(tái)。通過與采用7nm FinFET工藝的早期客
【中國,2013年7月15日】—— 全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS) 今天宣布推出用于實(shí)現(xiàn)電學(xué)感知設(shè)計(jì)的Virtuoso®版圖套件,它是一種
重點(diǎn):· 認(rèn)證確保精確性方面不受影響,并包含用于65納米至14納米FinFET制程的物理驗(yàn)證簽收的先進(jìn)技術(shù)· 雙方共同的客戶可通過它與Cadence Virtuoso及Encounter平臺(tái)的無縫集成進(jìn)行版圖設(shè)計(jì)和驗(yàn)證版圖21
益華電腦(Cadence Design Systems)宣布,其數(shù)位、客制與 signoff 工具已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)新的方法,讓客戶能夠享受晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)具備臺(tái)積公司更高效能、更低功耗與更小面積等優(yōu)勢(shì)的 16nm FinFET 制程。 臺(tái)積電
益華(Cadence)針對(duì)28奈米以下制程及鰭式場(chǎng)效電晶體(FinFET)制程發(fā)布最新版Virtuoso布局(Layout)設(shè)計(jì)套件,該套件具備電子意識(shí)設(shè)計(jì)(Electrically Aware Design, EAD)功能,可以協(xié)助行動(dòng)裝置積體電路(IC)設(shè)計(jì)商縮短產(chǎn)品
摘要:· Cadence 可支持電學(xué)感知設(shè)計(jì)(EAD)的版圖套件,(EAD)在版圖繪制過程中可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)寄生參數(shù)提取,從而為工程師們節(jié)省從數(shù)天到數(shù)周不等的設(shè)計(jì)時(shí)間。· 新產(chǎn)品和方法學(xué)減少了進(jìn)行多次設(shè)計(jì)反復(fù)和&ldq
益華(Cadence)針對(duì)28奈米以下制程及鰭式場(chǎng)效電晶體(FinFET)制程發(fā)布最新版Virtuoso布局(Layout)設(shè)計(jì)套件,該套件具備電子意識(shí)設(shè)計(jì)(Electrically Aware Design, EAD)功能,
臺(tái)積電創(chuàng)建和交付本質(zhì)為基于SKILL語言的設(shè)計(jì)套件(PDKs),為客戶提供最佳的用戶體驗(yàn)和最高水準(zhǔn)的精確度。世界領(lǐng)先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺(tái)用于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的定制設(shè)計(jì)需要,涵蓋16納米FinFET設(shè)計(jì)。主要工具包括Vir
21ic訊 Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司今天宣布推出用于實(shí)現(xiàn)電學(xué)感知設(shè)計(jì)的Virtuoso®版圖套件,它是一種開創(chuàng)性的定制設(shè)計(jì)方法,能提高設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)的設(shè)計(jì)生產(chǎn)力和定制IC的電路性能。這是一種獨(dú)特的在設(shè)計(jì)中實(shí)現(xiàn)電學(xué)驗(yàn)證功能,
臺(tái)積電創(chuàng)建和交付本質(zhì)為基于SKILL語言的設(shè)計(jì)套件(PDKs),為客戶提供最佳的用戶體驗(yàn)和最高水準(zhǔn)的精確度。世界領(lǐng)先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺(tái)用于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的定制設(shè)計(jì)需要, 涵蓋16納米FinFET設(shè)計(jì)。主要工具包括Virt
為專注于解決先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)的日益復(fù)雜性,全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS) 日前宣布,臺(tái)積電已與Cadence在Virtuoso定制和模擬設(shè)計(jì)平臺(tái)擴(kuò)大合作以設(shè)計(jì)和驗(yàn)證其尖端IP。此外,臺(tái)積電還將擴(kuò)展
臺(tái)積電創(chuàng)建和交付本質(zhì)為基于SKILL語言的設(shè)計(jì)套件(PDKs),為客戶提供最佳的用戶體驗(yàn)和最高水準(zhǔn)的精確度。世界領(lǐng)先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺(tái)用于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的定制設(shè)計(jì)需要, 涵蓋16納米FinFET設(shè)計(jì)。主要工具包括Virt
臺(tái)積電創(chuàng)建和交付本質(zhì)為基于SKILL語言的設(shè)計(jì)套件(PDKs),為客戶提供最佳的用戶體驗(yàn)和最高水準(zhǔn)的精確度。世界領(lǐng)先的晶圓代工廠部署Virtuoso平臺(tái)用于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的定制設(shè)計(jì)需要, 涵蓋16納米FinFET設(shè)計(jì)。主要工具包括Virt
為專注于解決先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)的日益復(fù)雜性,Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司日前宣布,臺(tái)積電已與Cadence在Virtuoso定制和模擬設(shè)計(jì)平臺(tái)擴(kuò)大合作以設(shè)計(jì)和驗(yàn)證其尖端IP。此外,臺(tái)積電還將擴(kuò)展其純正以本質(zhì)為基于SKILL語言的的工藝流程
益華電腦(Cadence)宣布臺(tái)積電已選用益華解決方案,適用于20奈米設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu),其解決方案涵蓋Virtuoso客制/類比與Encounter RTL-to-Signoff平臺(tái)。 益華晶片實(shí)現(xiàn)事業(yè)群資深副總裁徐季平表示,益華一直與臺(tái)積電和雙方的
Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司日前宣布TSMC已選擇Cadence解決方案作為其20納米的設(shè)計(jì)架構(gòu)。Cadence解決方案包括Virtuoso定制/模擬以及Encounter RTL-to-Signoff平臺(tái)。TSMC 20納米參考流程在Encounter和Virtuoso平臺(tái)上吸收了新
全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ: CDNS)今天宣布TSMC已選擇Cadence?解決方案作為其20納米的設(shè)計(jì)架構(gòu)。Cadence?解決方案包括Virtuoso?定制/模擬以及Encounter? RTL-to-Signoff平臺(tái)。 TSMC
Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司日前宣布,汽車零部件生產(chǎn)商Denso公司在改用了Cadence定制/模擬與數(shù)字流程之后,在低功耗混合信號(hào)IC設(shè)計(jì)方面實(shí)現(xiàn)了質(zhì)量與效率的大幅提升。將Cadence Encounter RTL-to-GDSII流程應(yīng)用于設(shè)計(jì)的數(shù)字