3D堆疊的TLC閃存有木有,三星850 EVO終于來了。其實(shí)三星早在7月初就宣布了新一代高端固態(tài)硬盤850 EVO,會(huì)采用3D立體堆疊的V-NAND TLC閃存顆粒,但卻一直沒有正式發(fā)布,相關(guān)資料也是從未公開。三星850 EVO固態(tài)硬盤規(guī)格
【導(dǎo)讀】IBM演示3D堆疊內(nèi)部水冷芯片 IBM實(shí)驗(yàn)室和柏林弗勞恩霍夫研究院(Fraunhofer Institute)合作,日前向外界展示了一款采用3D堆疊技術(shù),并在芯片內(nèi)部實(shí)現(xiàn)直接水冷散熱的原型芯片。該芯片使用3D堆疊技術(shù)
【導(dǎo)讀】隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,硅芯片的很多層已經(jīng)逼近原子級(jí)別。芯片技術(shù)未來的發(fā)展可能終將面對(duì)無法逾越的障礙。業(yè)界進(jìn)行了很多改變,鋁取代了銅;CMP技術(shù)被引入;高K鉿氧化物取代硅氧化物作為晶體管(門)的基礎(chǔ);移
【導(dǎo)讀】【中國(guó),2013年9月25日】——全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布,臺(tái)積電與Cadence合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。 全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)
【中國(guó),2013年9月25日】——全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布,臺(tái)積電與Cadence合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。該流程通過基于Wide I/O接口的3D堆疊
近日消息,Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司宣布,與臺(tái)積電合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。該流程通過基于Wide I/O接口的3D堆疊,在邏輯搭載存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)上進(jìn)行了驗(yàn)證 ,可實(shí)現(xiàn)多塊模的整合。它將臺(tái)積電的
Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司近日宣布,臺(tái)積電與Cadence合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。該流程通過基于Wide I/O接口的3D堆疊,在邏輯搭載存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)上進(jìn)行了驗(yàn)證 ,可實(shí)現(xiàn)多塊模的整合。它將臺(tái)積電
21ic訊 Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司日前宣布,臺(tái)積電與Cadence合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。該流程通過基于Wide I/O接口的3D堆疊,在邏輯搭載存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)上進(jìn)行了驗(yàn)證 ,可實(shí)現(xiàn)多塊模的整合。它
新參考流程增強(qiáng)了CoWoSTM (chip-on-wafer-on-substrate)芯片設(shè)計(jì) 使用帶3D堆疊的邏輯搭載存儲(chǔ)器進(jìn)行過流程驗(yàn)證全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布,臺(tái)積電與Cadence合作開發(fā)出了3D
全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)日前宣布,臺(tái)積電與Cadence合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。該流程通過基于Wide I/O接口的3D堆疊,在邏輯搭載存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)上進(jìn)行了
類比積體電路設(shè)計(jì)也將進(jìn)入三維晶片(3D IC)時(shí)代。在數(shù)位晶片開發(fā)商成功量產(chǎn)3D IC方案后,類比晶片公司也積極建置類比3D IC生產(chǎn)線,期透過矽穿孔(TSV)與立體堆疊技術(shù),在單一封裝內(nèi)整合采用不同制程生產(chǎn)的異質(zhì)類比元件
類比積體電路設(shè)計(jì)也將進(jìn)入三維晶片(3D IC)時(shí)代。在數(shù)位晶片開發(fā)商成功量產(chǎn)3D IC方案后,類比晶片公司也積極建置類比3D IC生產(chǎn)線,期透過矽穿孔(TSV)與立體堆疊技術(shù),在單一封裝內(nèi)整合采用不同制程生產(chǎn)的異質(zhì)類比元件
FPGA 市場(chǎng)對(duì)于28納米的爭(zhēng)霸,已經(jīng)從幾年前的藍(lán)圖布局到產(chǎn)品試制再到目前已正式量產(chǎn),同時(shí)這也宣告FPGA真正走入了28納米制程的新階段。包括 Altera、Xilinx、Lattice在內(nèi)的主要FPGA廠商紛紛端出28納米FPGA大餐,意圖喂飽市場(chǎng)那張饑渴的大嘴。說的夸張點(diǎn),似乎28納米與FPGA劃上等號(hào)。只要擁有28納米產(chǎn)品,就象征了該廠家所擁有足夠的技術(shù)實(shí)力與研發(fā)創(chuàng)新。而端不出這道菜,似乎在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中就少了能抓住客戶胃口以及與對(duì)手抗衡的利器。
FPGA走入28納米制程之后,不僅功能與整合度能超越傳統(tǒng)FPGA,最重要的是,產(chǎn)品性價(jià)比也進(jìn)一步逼近ASSP與ASIC。這意義在于,過去FPGA在系統(tǒng)中的定位,主要是協(xié)助ASIC、ASSP等核心處理器來處理數(shù)據(jù)、提供I/O擴(kuò)充等功能,其定位是『配角』;但走入28納米制程之后,F(xiàn)PGA可突破以往功耗過高的問題,成為高性能、低功耗以及小尺寸的代名詞。
微控制器(MCU)整合度將再上一層樓。為滿足智慧電表對(duì)于高整合度微控制器的需求,微控制器業(yè)者已計(jì)劃導(dǎo)入3D堆疊制程技術(shù),進(jìn)一步縮小晶片尺寸、降低功耗,同時(shí)解決散熱問題。 德州儀器亞洲區(qū)市場(chǎng)開發(fā)經(jīng)理陳俊宏表
盡管最近幾年以TSV穿硅互聯(lián)為代表的3D芯片技術(shù)在各媒體上的出鏡率極高,但許多人都懷疑這種技術(shù)到底有沒有可能付諸實(shí)用,而且這項(xiàng)技術(shù)的實(shí)際發(fā)展速度也相對(duì)緩慢,目前很大程度上仍停留在“紙上談兵”的階段
盡管最近幾年以TSV穿硅互聯(lián)為代表的3D芯片技術(shù)在各媒體上的出鏡率極高,但許多人都懷疑這種技術(shù)到底有沒有可能付諸實(shí)用,而且這項(xiàng)技術(shù)的實(shí)際發(fā)展速度也相對(duì)緩慢,目前很大程度上仍停留在“紙上談兵”的階段
IMEC的研究人員表示,他們已證實(shí)其3D設(shè)計(jì)工具中有適當(dāng)?shù)臒崮P?,可用于下一?D堆疊芯片的設(shè)計(jì)。其3D堆疊看來很接近未來的商用化芯片了。它在頂端以硅穿孔(TSV)和微凸塊(micro-bumps)技術(shù)整合了IMEC專有邏輯CMOS IC與
Imec和Atrenta聯(lián)手為3D堆疊芯片開發(fā)先進(jìn)的規(guī)劃和分割設(shè)計(jì)流程,在芯片設(shè)計(jì)過程的早期就實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的分塊和原型設(shè)計(jì)。這一早期的動(dòng)作不僅有助于實(shí)現(xiàn)低成本的3D系統(tǒng),還能通過減少設(shè)計(jì)迭代的數(shù)量縮短面市時(shí)間。從多個(gè)方面
盡管最近幾年以TSV穿硅互聯(lián)為代表的3D芯片技術(shù)在各媒體上的出鏡率極高,但許多人都懷疑這種技術(shù)到底有沒有可能付諸實(shí)用,而且這項(xiàng)技術(shù)的實(shí)際發(fā)展速度也相對(duì)緩慢,目前很大程度上仍停留在“紙上談兵”的階段