半導體工藝技術在不斷進步。先行廠商已開始量產(chǎn)22/20nm工藝產(chǎn)品,而且還在開發(fā)旨在2~3年后量產(chǎn)的15nm技術。不過,雖然技術在不斷進步,但很多工藝技術人員都擁有閉塞感。因為工藝技術革新的關鍵——微細化
半導體工藝技術在不斷進步。先行廠商已開始量產(chǎn)22/20nm工藝產(chǎn)品,而且還在開發(fā)旨在2~3年后量產(chǎn)的15nm技術。不過,雖然技術在不斷進步,但很多工藝技術人員都擁有閉塞感。因為工藝技術革新的關鍵——微細化
半導體工藝技術在不斷進步。先行廠商已開始量產(chǎn)22/20nm工藝產(chǎn)品,而且還在開發(fā)旨在2~3年后量產(chǎn)的15nm技術。不過,雖然技術在不斷進步,但很多工藝技術人員都擁有閉塞感。因為工藝技術革新的關鍵——微細化讓人擔心。
芯片最小能小到什么程度?如果我說是7納米!你一定會感到不可思議。但在不久的將來,這一切都會成為現(xiàn)實。近日,英特爾在第九屆年度研究會議簡要介紹了其半導體工藝路線圖。通過把重點放在研發(fā)和投資生產(chǎn)方面。在會議
為邁向7nm工藝做準備,英特爾微幅調(diào)高了今年度資本支出,并宣布將強化在平板電腦和所謂輕薄筆電(Ultrabook)方面的努力工作。在稍早前的季度財報電話會議中,該公司表示還計劃擴展其x86指令集架構(gòu)的安全性。盡管聲稱其
為邁向7nm工藝做準備,英特爾微幅調(diào)高了今年度資本支出,并宣布將強化在平板電腦和所謂輕薄筆電(Ultrabook)方面的努力工作。在稍早前的季度財報電話會議中,該公司表示還計劃擴展其x86指令集架構(gòu)的安全性。盡管聲稱其
為邁向7nm工藝做準備,英特爾微幅調(diào)高了今年度資本支出,并宣布將強化在平板電腦和所謂輕薄筆電(Ultrabook)方面的努力工作。在稍早前的季度財報電話會議中,該公司表示還計劃擴展其x86指令集架構(gòu)的安全性。 盡
英國質(zhì)量計量設備廠商Metryx日前正式加入一項由歐洲廠商主導的半導體設備創(chuàng)新發(fā)展評估項目,在此合作框架下,Metryx將和Intel,IMEC等展開深入合作,為20納米節(jié)點半導體工藝開發(fā)提供高精度質(zhì)量計量技術和設備。高精度
英國質(zhì)量計量設備廠商Metryx日前正式加入一項由歐洲廠商主導的半導體設備創(chuàng)新發(fā)展評估項目,在此合作框架下,Metryx將和Intel,IMEC等展開深入合作,為20納米節(jié)點半導體工藝開發(fā)提供高精度質(zhì)量計量技術和設備。
日本 Renesas Electronics(瑞薩電子) 和臺積電,將加入一個由日本主導、從事新世代芯片制程技術開發(fā)的國際聯(lián)盟。該聯(lián)盟預計這個月開始研發(fā) EUV (超紫外光) 微影技術,目標在 2015 年底前結(jié)束。企業(yè)成員將運用這項技術
《日本經(jīng)濟新聞》日前報導,日本 Renesas Electronics(瑞薩電子) 和臺積電,將加入一個由日本主導、從事新世代芯片制程技術開發(fā)的國際聯(lián)盟。該聯(lián)盟預計這個月開始研發(fā) EUV (超紫外光) 微影技術,目標在 2015 年底前結(jié)
今天,Intel研究院主持的第九屆“Research at Intel”(R@I)科研成果展示活動開幕。Intel首席技術官Justin Rattner親臨會場,介紹了35項正在進行、有望改變未來科技面貌的創(chuàng)新科研項目。 不過最讓我們感興趣的還是
在本周開幕的臺積電2011技術研討會上,臺積電公司并沒有談及外界風傳頗多的臺積電與蘋果之間的代工協(xié)議問題。而對A5處理器的實際拆解結(jié)果也表明,目前為止三星仍是蘋果A5處理器的代工商。不過最近出現(xiàn)的一些跡象,
在本周開幕的臺積電2011技術研討會上,臺積電公司并沒有談及外界風傳頗多的臺積電與蘋果之間的代工協(xié)議問題。而對A5處理器的實際拆解結(jié)果也表明,目 前為止三星仍是蘋果A5處理器的代工商。不過最近出現(xiàn)的一些跡象,卻
索尼公司昨天在美國華盛頓舉辦的SID2010展會上展示了一款可以相當有趣的可卷曲式OLED顯示屏產(chǎn)品。索尼這款可卷曲OLED顯示屏的尺寸為4.1英寸,其厚度僅為80微米,該顯示屏之所以可以達到如此超薄的程度主要得感謝特別
全球領先的真空設備供應商Edwards近日發(fā)布iXL120設備,拓展了其面向半導體制造工藝的干泵設備產(chǎn)品。iXL120具有專為負載時鐘和其他清洗應用的設計,在同等產(chǎn)品中可達到最快速的抽取速度,同時還具有低能耗、高吞吐量的
臺積電CEO兼董事長張忠謀近日在加州圣何塞的一次技術會議上表示,臺積電將會和整個半導體產(chǎn)業(yè)一起,向14nm以下的制造工藝進軍。 張忠謀認為,2011-2014年間的全球半導體市場的發(fā)展速度不會很快,原因有很多,其中之
臺積電CEO兼董事長張忠謀近日在加州圣何塞的一次技術會議上表示,臺積電將會和整個半導體產(chǎn)業(yè)一起,向14nm以下的制造工藝進軍。 張忠謀認為,2011-2014年間的全球半導體市場的發(fā)展速度不會很快,原因有很多,其中
臺積電CEO兼董事長張忠謀近日在加州圣何塞的一次技術會議上表示,臺積電將會和整個半導體產(chǎn)業(yè)一起,向14nm以下的制造工藝進軍。張忠謀認為,2011-2014年間的全球半導體市場的發(fā)展速度不會很快,原因有很多,其中之一
隨著工藝微細, MOS管子速度越來越快, 我們在設計中會體會到把電路離散處理化有很多好處. 這在后面我們再分析, 首先先談一下為什么工藝微細化讓數(shù)字設計者也要考慮管子模擬特性. 舉個例子-EMC的問題, 隨著電子產(chǎn)品越來